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2.4.2微珠的埋植深度對(duì)反光強(qiáng)度的影響

在回歸反射織物的加工過(guò)程中，通過(guò)控制工藝參數(shù)而控制微珠的埋植深度是非常重要的。如果微珠陷入反射層過(guò)深，玻璃微珠接受到的入射光相對(duì)較少；其次，光線(xiàn)進(jìn)入微珠經(jīng)折射后有一部分將回不到光源方向(如圖8)。而過(guò)淺則反射層不可能有效地包覆于微珠的背面，有透射現(xiàn)象產(chǎn)生，同時(shí)反映在產(chǎn)品上的微珠耐洗滌、耐摩擦牢度的降低。因此微珠埋植過(guò)深或過(guò)淺都使反光亮度降低。經(jīng)過(guò)大量橫斷面掃描電鏡照片的觀察后發(fā)現(xiàn)：微珠的埋植深度約為其直徑的二分之一到三分之一較理想。

2.4.3微珠分布狀態(tài)對(duì)反光強(qiáng)度的影響

(1)密度玻璃微珠分布得密集、均勻，則產(chǎn)品的反光強(qiáng)度高；如果玻璃微珠分布不密集均勻，在顯微鏡下觀察，玻璃微珠聚集成一堆一堆，或分散成稀稀拉拉，產(chǎn)品的反光強(qiáng)度就相對(duì)較低(如圖9)。

(2)排列層次定向反光布表面的微珠必須保證單層排列，避免多層摞珠。否則，摞在珠子上面的沒(méi)有了反射層的襯托就失去回歸反射性能(見(jiàn)前面反射體的影響)，并且這部分珠子與粘合劑接觸面小，牢度差，一搓就掉(如圖10、11)。經(jīng)大量實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證：有多層摞珠的產(chǎn)品，反光強(qiáng)度低，隨著磨擦或洗滌次數(shù)的增加，反光強(qiáng)度衰減嚴(yán)重。

3結(jié)論：

1、本試驗(yàn)選用的基布，經(jīng)過(guò)四種前處理工藝比較，選擇出了最好的前處理工藝，明顯改善了織物固有的凹凸不平或填塞了布孔，改善了產(chǎn)品表觀，防止了加工過(guò)程中的布孔滲透問(wèn)題，解決產(chǎn)品多次洗滌后皮膜與基布的剝離問(wèn)題。實(shí)驗(yàn)表明1、2、3號(hào)基布經(jīng)前處理后均可制作性能良好的反光布。

2、粘合劑及其它化工原材料的篩選是一項(xiàng)大量的工作，其粘接性、透明度、柔軟性等對(duì)反光布性能的影響很大。

3、鏡面反射層的設(shè)置是必不可少的。選擇適當(dāng)?shù)溺R面材料反射及工藝可大幅度的提高反光強(qiáng)度值。

4、反光元件—玻璃微珠的折射率、大小、埋植深度、排列密度等對(duì)產(chǎn)品的反光強(qiáng)度的影響有一定的規(guī)律，但綜合起來(lái)的影響是復(fù)雜的，還需進(jìn)一步研究。如玻璃微珠的折射率在我國(guó)只有1.9～2.2和1.5的普通玻璃珠，其它規(guī)格尚未見(jiàn)到。

總之，植珠法反光布加工技術(shù)中的關(guān)鍵因素較多，要獲得性能良好的反光布，除了選擇合適的原材料外，還須依賴(lài)各層具體材料及各道加工工藝配方、參數(shù)、設(shè)備等諸多方面的配合。