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植珠法反光布加工工藝技術(shù)討論

來源:印染在線 發(fā)布時間:2015年01月29日

(1)經(jīng)處理后的基布制作的反光布,外觀均勻、細(xì)膩,疵點少,微珠呈現(xiàn)水平排布;反光布上反光膜層的成膜性和堅牢度增強了,微珠耐洗牢度提高了,皮膜與基布的抗剝離性解決了,對表面粗糙的基布制作的反光布明顯提高了R’值。

表2基布處理對制作的反光布性能的影響

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注:反光強度R’單位:cd/Lx/m2,其他單位同表1;R10,:表示樣品洗滌10次以后的反光強度值。

(2)1號基布經(jīng)過前處理后制作的反光布,除了表現(xiàn)在外觀的改善方面外,主要是經(jīng)過A工藝處理以后,解決了成品的耐洗滌剝離性能。

2.2反射體的設(shè)置

2.2.1反射體的選擇

玻璃微珠背面設(shè)置反射體,目的在于將經(jīng)過微珠折射后的入射光,盡可能多地通過反射體返回微珠內(nèi),然后再經(jīng)微珠折射后返回光源處。這種反射體有各種各樣類型、規(guī)格,我們進(jìn)行了篩選試驗,其對定向反光強度的影響結(jié)果列于表3。

從表3中可以看出,微珠背面不設(shè)置反射體,反光強度極低,而設(shè)置了反射體的則隨著不同反射體有不同程度的提高。從反光體1?!?#的基布基本上可以看出,隨著鏡反射比的提高,定向反光強度呈上升趨勢。反射比較高者提高較多。但太高則由于布面光滑難于涂覆粘合劑。從圖3更直觀地看出,反光強度隨鏡反射比的提高而提高,但提高幅度不同,從近乎100%漫反射狀態(tài)到有鏡面反射時反光強度提高迅速,當(dāng)鏡面反射比提高到一定程度后,反光強度提高明顯緩慢。

表3基材鏡反射比與產(chǎn)品反光強度的關(guān)系表(R,:cd/Lx/m2)

在織物上設(shè)置反射體除考慮產(chǎn)品的亮度外,還應(yīng)考慮設(shè)備因素、加工的可行性、產(chǎn)品的綜合性能指標(biāo)、成本等,因此,選擇4#反射體比較適合。

2.3.2反射體用量對反光強度的影響

從理論上講反射體用量越多,反射層越光亮,產(chǎn)品的反光強度越高。但在試驗中發(fā)現(xiàn):反射體用量增至一定程度后,反光強度反而下降,并出現(xiàn)產(chǎn)品粘結(jié)牢度下降,表現(xiàn)為加工困難,產(chǎn)品不耐洗滌,微珠脫落等問題。如圖4所示,反射體用量有一最佳值,在該值范圍除反光強度高外,產(chǎn)品的其它性能也很好。

 

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